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無(wú)氰鍍鋅光亮劑柔軟劑
本公司主營(yíng)各種環(huán)保型電鍍添加劑(堿性無(wú)氰鍍鋅光亮劑、三價(jià)鉻藍(lán)白鋅鈍化劑、三價(jià)鉻彩鋅鈍化劑、三價(jià)鉻黑鋅鈍化劑、酸性氯化鉀鍍鋅光亮劑、水溶性封閉劑、鋅鎳合金光亮劑等),免費(fèi)提供樣品、技術(shù)指導(dǎo)和化驗(yàn)服務(wù)。如有需要,請(qǐng)聯(lián)系我們!
——無(wú)氰鍍鋅光亮劑柔軟劑特性與用途——
1、具有優(yōu)良的均鍍能力,適用于形狀復(fù)雜或者大平面狀工件,高低區(qū)鍍層厚度較均衡。覆蓋能力強(qiáng),工件表面全受鍍,厚度均勻。滾鍍、掛鍍均適用。
2、 A02-350系列添加劑對(duì)雜質(zhì)的容忍程度較高,鍍液中鉛[Pb2+]的含量小于2 ppm、銅[Cu2+]的含量小于10 ppm將不會(huì)對(duì)鍍層品質(zhì)產(chǎn)生惡劣影響。
3、對(duì)鋅離子濃度的耐受范圍高且寬??稍?0~15g/L濃度范圍內(nèi),高質(zhì)量的電鍍外觀。
4、鍍層光亮細(xì)致,脆性小,不易起泡。
5、電鍍廢水處理工藝較簡(jiǎn)單,且可達(dá)到GB 21900-2008《電鍍污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》。
二、A02-350系列添加劑開(kāi)缸工藝條件:
名 稱
范 圍
最 佳
Zn2+濃度
10~15g/L
12g/L
NaOH含量
100~150g/L
135g/L
A02-350A
8-16ml/l
12ml/l
A02-350B
1~2ml/L
1.5ml/L
A02-350C
2~4ml/L
3ml/L
A02-350D
10-20ml/L
15ml/L
溫度
20~30℃
28℃
陰極電流密度
0.5~6A/dm2
2 A/dm2
鍍液過(guò)濾
連續(xù)過(guò)濾和溢流
同左
陽(yáng)極材料
鐵板(設(shè)立溶鋅槽)
同左
三、劑型性狀及功能
A02-350A:堿性無(wú)氰鍍鋅主光劑,賦予鍍層基本的光亮度,有效防止高區(qū)燒焦,加入過(guò)量可導(dǎo)致高區(qū)鍍層厚度減低及增大鍍層的脆性。
A02-350B:堿性無(wú)氰鍍鋅副光劑,可有效改善低區(qū)鍍層的清亮度及提高鍍液的覆蓋能力,加入過(guò)量可導(dǎo)致整個(gè)鍍層厚度減低及增大鍍層的脆性。
A02-350C:堿性無(wú)氰鍍鋅凈化劑,可在一定范圍內(nèi)提高鍍液對(duì)雜質(zhì)的容忍能力,當(dāng)鍍液中雜質(zhì)過(guò)高,加入效果不明顯。
A02-350D:堿性無(wú)氰鍍鋅水軟化劑,可有效軟化水質(zhì),提高鍍層質(zhì)量。
四、日常補(bǔ)給添加
生產(chǎn)方式
掛鍍
滾鍍
A02-350A添加量
150~250 mL/kA.h
100~200 mL/KA.h
A02-350B添加量
100~200 mL/kA.h
100~200 mL/KA.h
A02-350C添加量
40~60 mL/kA.h
40~60mL/KA.h
A02-350D添加量
隨片堿一起補(bǔ)入,添加量為片堿量的1/8~1/1
五、異常處
故 障 現(xiàn) 象
故 障 原 因
排 除 方 法
層起泡
①前處理不良
加強(qiáng)前處理
②光劑過(guò)量
加入2-10mL/L10%次氯酸鈉液處理,提高鍍液溫度,加速光劑分解.在工藝允許使用范圍內(nèi)增加鋅離子濃度. 用0.12~0.24g/L活性炭處理利用其吸附除去部分光劑,抽出部份槽液到儲(chǔ)備槽,兌入部份水
③鍍層厚度超20μm
鍍層內(nèi)應(yīng)力過(guò)高,調(diào)整鋅離子濃度或電鍍時(shí)間
④基體不良
基體為高碳鋼或熱處理件表面的厚氧化黑膜需徹底去除
電流效率低,沉積速度慢
①鋅離子濃度低
鍍液中鋅離子濃度應(yīng)維持在10~15g/L
②槽液溫度過(guò)低
保持槽液溫度20~30℃
③光亮劑嚴(yán)重過(guò)量
見(jiàn)A項(xiàng)第2點(diǎn)
④陽(yáng)極鈍化
控制氫氧化鈉濃度在100~150g/L保持氫氧化鈉與鋅離子濃度之比在10~12之間。
鍍層粗糙發(fā)暗,分散能力差。
①鋅離子含量過(guò)高,伴隨氫氧化鈉含量偏低
分析調(diào)整??刂其\離子濃度在10~15g/L,氫氧化鈉濃度與鋅離子的比值10~12為宜。
②光亮劑不足
適量補(bǔ)加A02-350A光劑。
③電流密度過(guò)大
降低電流密度。
④槽液溫度過(guò)高
保持槽液溫度20~30℃。
低電流密度區(qū)光亮性差
①鋅離子含量過(guò)高,伴隨氫氧化鈉含量偏低
分析調(diào)整,控制鋅離子濃度在10~15g/L,氫氧化鈉濃度與鋅離子的比值10~12為宜。
② A02-350B不足
根據(jù)霍爾槽試片,適量補(bǔ)加A02-350B光劑。
③電流密度不夠
提高電流密度。
鍍層發(fā)霧,高電流密度區(qū)更嚴(yán)重
①鋅離子含量過(guò)低,伴隨氫氧化鈉含量過(guò)高
在工藝允許使用范圍內(nèi)提高鋅離子濃度。
②A02-350A不足
根據(jù)霍爾槽試片,適量補(bǔ)加A02-350A光劑。
③雜質(zhì)影響
加A02-350C或350D。
④除油不徹底
加強(qiáng)前處理。
低區(qū)鈍化后發(fā)暗
雜質(zhì)離子較多
適當(dāng)增加A02-350B用量;在過(guò)濾機(jī)加入鋅粉及助濾劑硅藻土以除雜
聲明:此技術(shù)資料內(nèi)所有關(guān)于本公司產(chǎn)品的各項(xiàng)建議和數(shù)據(jù),是以本公司依賴的實(shí)驗(yàn)及資料為標(biāo)準(zhǔn),各從業(yè)員如違 反操作或變數(shù)據(jù)后,所造成不良后果,本公司不負(fù)任何責(zé)任,以上各項(xiàng)建議和數(shù)據(jù)也不能作為侵犯版權(quán)的證據(jù)。
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