生產(chǎn)供應高純高致密度硒化鉍濺射靶材
硒化鉍濺射靶材
Bi2Se3 99.999%
圓片靶，矩形靶，圓柱靶，臺階靶，按圖紙加工。
用途：鍍膜及熱電材料
硒化鉍濺射靶材分為N型摻雜和P型摻雜，N型摻雜主要摻雜元素為硒無素，P型摻雜主要摻雜元素為銻無素。
碲化鉍是一種灰色的粉末，分子式為Bi2Te3。硒化鉍是個半導體材料，具有較好的導電性，但導熱性較差。雖然硒化鉍的危險性低，但是如果大量的攝取也有致命的危險但此種材料即可允許電子在室溫條件下無能耗地在其表面運動，這將給芯片的運行速度帶來飛躍，甚至可大大提高計算機芯片的運行速度和工作效率。
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