供應YIG單晶薄膜
釔鐵石榴石(YIG) 單晶薄膜
YIG單晶薄膜由于其特殊的磁光、磁聲和旋磁性能，因此，無論在基礎研究還是應用研究領域內(nèi)均受到高度重視,常用于作振蕩器、磁光調(diào)制器和磁泡存儲器等,其液相外延工藝通常有3 種方式,即翻轉(zhuǎn)法、傾斜法和浸漬法,主要區(qū)別在于基片浸入方式不同。目前,制備YIG單晶薄膜大都采用浸漬法,其原理是:首先將YIG和助熔劑混合物在鉑金坩堝中加熱至1100℃左右,使其充分熔化,并使溶液均勻化;然后降溫使之呈過飽和溶液;再將準備好的基片浸漬于溶液中并旋轉(zhuǎn)。YIG薄膜就在基片上外延生成,薄膜生長速度大致與基片轉(zhuǎn)速的平方成正比,控制膜厚到設定值時,即可從溶液中提出基片,用離心機除去基片上的殘留物,就可獲得高質(zhì)量的YIG單晶外延薄膜。
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